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有掩膜光刻機

簡要描述：v手動、半自動、全自動有掩膜光刻機v高分辨率掩模對準(zhǔn)光刻

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號

廠商性質(zhì)

代理商

更新時間

2024-10-22

瀏覽次數(shù)

186
詳細介紹

v 手動、半自動、全自動有掩膜光刻機

v 高分辨率掩模對準(zhǔn)光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米

v 基片尺寸可滿足4、6、8、12英寸

v 經(jīng)過特殊設(shè)計，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦

v 設(shè)備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻


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